當地時間22日，美國眾議院外交事務委員會投票通過了旨在對中國半導體產業升級出口管制的《硬件技術管制多邊協調法案》（MATCH Act，簡稱「MATCH法案」）。

　　「MATCH法案」將強化現有限制措施，管控阿斯麥和東京電子等外國公司的半導體製造設備銷售行為，具體措施包括禁止這些公司的工程師在中國境內的特定設施內開展設備維護和維修工作。

　　其中最重要的措施之一，將是對阿斯麥所有浸潤式深紫外光刻機（浸潤式DUV）實施限制，在現有管制基礎上進一步升級。當前美方已禁止對華出口最先進的極紫外光刻機（EUV），荷蘭政府此前也已針對部分DUV設備實施出口管制。

　　此外，美方還將針對特定中國企業出台更為嚴苛的限制。這些措施不僅適用於外國企業，同樣也會對美國本土企業產生影響，其核心目的在於從根本上切斷此類中企採購美國及其盟國製造的生產設備的所有渠道。

　　美媒分析指，上述管制力度已超出針對中國整體半導體產業的常規管控範疇。在某些特定案例中，美方此前已對美企向相關設施供貨實施更嚴格限制，此次法案將強制要求美國盟國政府同步推行同等力度管制。

　　美國眾議院外交事務委員會一名工作人員向媒體表示，相關法案是2018年《出口管制改革法》（ECRA）出台以來，該領域「規模最大」的立法推進舉措。

　　據悉，「MATCH法案」僅是美眾議院外交事務委員會就多項出口管制相關法案進行投票的其中一項。其餘法案還涉及針對商務部的許可審批流程、跨部門協作機制、實體清單、執法工作及處罰措施。22日的投票通過僅為其可能正式生效的第一步。參議院已提出配套法案，相關內容最終或作為修正案納入《國防授權法案》。